PMJ2019 Technical Exhibition （第26回ホトマスク技術展示会）
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開催概要
- 名 称：
- Photomask Japan 2019 第26回ホトマスク技術展示会
- 主 催：
- ホトマスクジャパン(PMJ) / SPIE
- 共 催：
- BACUS / EMLC
- 協 賛：
- SEMI ジャパン
- 会 期：
- 2019年4月17日（水） 10:00-18:00
18日（木） 10:00-17:00 - 入 場：
- 無料（当日登録制）
※技術展示会への入場は無料です。
展示会招待券を印刷の上、
当日、名刺2枚を添えて受付にお持ちください。
※シンポジウム参加の場合は、別途登録（有料）が必要です。
参加登録はこちらRegistration - 会 場：
- パシフィコ横浜 アネックスホール（横浜市みなとみらい）
お問合せ先：
Photomask Japan 事務局
〒105-8335 東京都港区芝3-23-1
セレスティン芝三井ビルディング
株式会社JTB コミュニケーションデザイン内
TEL：03-5657-0777 / FAX：03-3452-8550
E-mail：
（展示会専用）